The 63rd JSAP Spring Meeting, 2016

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Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.6 Group IV Compound Semiconductors (SiC)

[20a-H101-1~10] 15.6 Group IV Compound Semiconductors (SiC)

Sun. Mar 20, 2016 9:00 AM - 11:45 AM H101 (H)

Katsunori Danno(Toyota Motor Co.)

11:15 AM - 11:30 AM

[20a-H101-9] Two Wavelength Excited Photoluminescence in 4H-SiC Substrate-Dependence on BGE Power Density-

Keitaro Kondo1, Takeshi Fukuda1, Zentaro Honda1, Norihiko Kamata1, Shuhei Yagi1, Hiroyuki Yaguchi1 (1.Saitama Univ.)

Keywords:bulk crystal,6Group IV Compound Semiconductors (SiC)

二波長励起PL法は、結晶内に潜む欠陥や不純物由来の非発光再結合準位を非接触で検出する方法である。今回用いたP型SiC基板のPLスペクトルは、ドナー・アクセプタ対発光が支配的であった。さらに二波長励起PL法で測定したところ、BGE照射により発光は消失し、B-lineの発光はC-lineよりもBGE強度による変化が大きいことが分かった。これらの結果は、それぞれのドナー準位と非発光再結合準位との繋がりの相違を示していると考えられる。