2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[20a-H103-1~11] 6.2 カーボン系薄膜

2016年3月20日(日) 09:00 〜 12:00 H103 (本館)

伊藤 利道(阪大)

10:00 〜 10:15

[20a-H103-5] 固体挿入プラズマCVD法によるBiを含む新規炭素系物質の合成

〇(D)田村 貴大1、柳瀬 隆2、長浜 太郎2、島田 敏宏2 (1.北大院総化、2.北大院工)

キーワード:ナノダイヤモンド、マイクロ波プラズマCVD、ビスマス

マイクロ波プラズマCVD法でダイヤモンド成長時に発生するプラズマに対し固体原料を直接挿入しドーピングするという特殊な方法でビスマスのドーピングを試みた。ビスマス挿入により成長した試料からは分子状物質の存在を示す特殊なラマンスペクトルが得られた。またTEM観察結果より、ダイヤモンドの結晶粒の間に、ビスマスを含んだ特殊なナノ粒子が存在していることがわかった。炭素の皮の中にアモルファスBiがくるまれた構造を持つ5 nm程度の粒子である。また、炭素の特殊な同素体であるChaoiteの存在を示唆する電子線回折像が得られた。