[20a-H111-1~10] 6.3 Oxide electronics

[20a-H111-1] Fabrication of AlO_x thin films by drop photochemical deposition

〇Shunta Sato¹, Masaya Ichimura¹ (1.NIT)

Keywords:Aluminium Oxide,Photochemical deposition,Thin film

酸化アルミニウム(Al₂O₃)は大きなバンドギャップ、高い絶縁破壊電界を持つ化学的、熱的に安定な物質であり保護膜などに応用されている。我々は過去に同様の堆積溶液を用いて、安価な薄膜作製法である光化学堆積(PCD)法によってAlO_x薄膜の作製を行った。しかし、作製された薄膜は膜厚0.02 μm程度と薄くなっていた。そこで、本研究では基板に溶液を少量滴下し光照射するドロップ光化学堆積(d-PCD)法によりAlO_x薄膜の作製の改善を図った。