2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[20a-H111-1~10] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2016年3月20日(日) 09:15 〜 11:45 H111 (本館)

坂井 延寿(東大)

10:45 〜 11:00

[20a-H111-7] 面方位制御La1/3Sr2/3FeO3薄膜における電荷不均化の膜厚依存性

簑原 誠人1、北村 未歩1、和達 大樹2、組頭 広志1 (1.高エネ研、2.東大物性研)

キーワード:酸化物薄膜、電荷不均化