[20a-H112-1~10] 15.5 IV族結晶，IV-IV族混晶

[20a-H112-9] 液浸ラマン分光法によるSi基板上歪Si:C薄膜に印加された応力評価

〇山本 章太郎¹、武内 一真¹、石原 聖也¹、小椋 厚志¹ (1.明治大学)

キーワード：歪、カーボンドープシリコン、液浸ラマン分光法