[20a-P4-1~71] 17 ナノカーボン（ポスター）

[20a-P4-67] 二次元原子層材料の電子ビームナノ加工解析

〇多田 和広¹、中川 力哉¹、鎌仲 章¹、安田 雅昭² (1.富山高専、2.大阪府大院工)

キーワード：分子動力学、電子照射、2次元原子層材料

グラフェンなどの二次元原子層材料が，それが示す様々な特異な性質の為に大きな注目を浴びている．その中、二次元二層シリカは，超薄膜トランジスタのゲート絶縁膜への応用が期待されている．一方，ナノ材料へ適切に電子線を照射することが，所望の特性を有する構造へ変形させる技術になると期待されている．
本研究では，所望の電子線ナノ加工を実現するための基礎的知見を得るため，電子線衝突過程を組み込んだ分子動力学シミュレーションを用いて，電子線照射による二次元二層シリカ等の二次元原子層材料の構造変化を解析し，その加工条件の探索を行った．