[20a-S224-1~9] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[20a-S224-2] EUVリソグラフィの分子シミュレーション

〇岩井 瑛規¹、川田 博昭¹、平井 義彦¹、安田 雅昭¹ (1.大阪府大工)

キーワード：EUVリソグラフィ、分子動力学法

極端紫外線（EUV）リソグラフィにおけるパターン形成のシミュレーション解析を行った。EUV露光過程では、電子散乱のモンテカルロ法により発生した光電子の軌道解析を行ない、得られた吸収エネルギー分布を基に、分子動力学法においてPMMA分子の主鎖切断を導入し構造緩和を行った。また、現像過程は、分子量の小さな分子から順に除去して構造緩和する過程をレジスト表面から深部へ進めていくことでモデル化した。