[20a-S224-1~9] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[20a-S224-4] 半導体露光用エキシマレーザのビーム面内偏光度分布の測定

〇手井 大輔¹、熊崎 貴仁¹、對馬 弘明¹、黒須 昭彦¹、太田 毅¹、松永 隆¹、溝口 計¹ (1.ギガフォトン株式会社)

キーワード：エキシマレーザ

半導体露光のマルチパターニングでは線幅制御を厳密に行う為、高い偏光度の維持が課題となっている。本発表では偏光度制御の高度化の基礎技術として、これまでビームの面内で均一と考えられてきた偏光度をS偏光成分のエネルギ強度分布とビーム本来のエネルギ強度分布の比較によって測定/評価を実施した。講演では測定方法とその結果について説明する。