2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.5 デバイス/集積化技術

[20a-S422-1~12] 13.5 デバイス/集積化技術

2016年3月20日(日) 09:00 〜 12:15 S422 (南4号館)

齋藤 真澄(東芝)

11:30 〜 11:45

[20a-S422-10] 短チャネルMOSFETにおける、低電界移動度の異常劣化について

名取 研二1 (1.東工大フロンテイア)

キーワード:MOSFET、低電界移動度、バリステイック移動度

短チャネルMOSFETにおいて、低電界移動度の値がチャネル長の微細化に伴って減少することは広く知られている。微細MOSFETにおけるキャリヤのバリステイック輸送が類似の効果をもたらすことが知られるが、実測される劣化はそれから予想されるものより著しく、その原因は明らかでなかった。本講演では、ドレイン電極が理想的振る舞いをせず、キャリヤをチャネルに逆散乱することに因ることを示す。