2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[20a-S621-1~8] 3.15 シリコンフォトニクス

2016年3月20日(日) 10:00 〜 12:15 S621 (南6号館)

岡野 誠(産総研)、庄司 雄哉(東工大)

10:45 〜 11:00

[20a-S621-4] 積層型Si方向性結合器の設計と作製

山本 悠介1、貝原 輝則1、清水 大雅1 (1.農工大工)

キーワード:シリコンフォトニクス

現在、通信量の増加から電気回線の光配線化が進んでおり、光集積回路では、導波路間の交差で生じるクロストークによるロスや、方向性結合器のGapをエッチングで形成する際に生じる荒れなどの問題がある。この問題を改善するために構造を3次元にすることで、導波路間距離が十分保て、Gapも成膜により形成できるため荒れを軽減できる。本研究では、光の立体配線を行うのに必要な積層型のSi方向性結合器の作製、評価を目的とした。