[20a-W323-1~12] 12.6 Nanobiotechnology

[20a-W323-1] Biomolecules Manipulation and in-situ Lithography Using Local Electric Field Patterned by Inverted-Electron Beam Lithography

〇Takayuki Hoshino¹, Hiroki Miyazako¹, Kunihiko Mabuchi¹ (1.UTokyo Info. Sci. Tech.)

Keywords:DNA,Electron beeamlithography,Inverted-Electron Beam Lithography

倒立型電子線描画システムにより電解質水溶液内に生じさせた局所電界を用い，DNAなどのバイオ分子の操作やその場パターニングについて報告する．Phase T4GT7 DNA を蛍光色素YOYO-1iodideで標識し，褪色防止剤，脱酸素剤と共に最終濃度35 nMbp に希釈しSiN膜上に滴下した．加速電圧2.5 keVで電子線照射し生成される局所電界，およびナノポアの作用によるDNAの局所的濃度や構造のダイナミクスを，対向した蛍光顕微鏡でその場観察した．