The 63rd JSAP Spring Meeting, 2016

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Oral presentation

16 Amorphous and Microcrystalline Materials » 16.3 Bulk, thin-film and other silicon-based solar cells

[20a-W611-1~12] 16.3 Bulk, thin-film and other silicon-based solar cells

Sun. Mar 20, 2016 9:00 AM - 12:15 PM W611 (W6)

Hiroshi Noge(Fukushima Univ.)

9:15 AM - 9:30 AM

[20a-W611-2] Improvement of Conversion Efficiency for Crystalline Si Solar Cells with Ultra-low Reflectivity Si Surfaces Fabricated by SSCT Method plus Nano-textured Rear Si Surfaces

Yuya Onitsuka1,2, Irishika Daichi1,2, Imamura Kentaro1,2, Kobayashi Hikaru1,2 (1.ISIR Osaka Univ., 2.CREST-JST)

Keywords:Crystalline silicon solar cells,Low reflectivity surface,wet process

我々は、化学的転写法(Surface Structure Chemical Transfer (SSCT))という方法で、シリコン表面の反射率を3%以下に極低化させ、pn接合を形成することで、反射防止膜を形成しなくても18%以上の高い変換効率が達成できることを示してきた。
本研究ではウェットプロセスで単結晶、多結晶シリコンいずれにも凹凸構造を作製し、光閉じ込め効果を得られるプロセスを検討した。この構造を裏面に作製し、表面にSSCT処理を施したpn接合太陽電池で変換効率19%以上が得られた。