The 63rd JSAP Spring Meeting, 2016

Presentation information

Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.6 Group IV Compound Semiconductors (SiC)

[20p-H101-1~21] 15.6 Group IV Compound Semiconductors (SiC)

Sun. Mar 20, 2016 1:15 PM - 7:00 PM H101 (H)

Masashi Kato(NITech), Mitsuo Okamoto(AIST), Mitsuru Sometani(Fuji Electric)

2:30 PM - 2:45 PM

[20p-H101-6] Surface recombination for 4H-SiC contacting with aqueous solutions

Yoshihito Ichikawa1, Masashi Kato1, Masaya Ichimura1 (1.NIT)

Keywords:SiC,surface recombination,aqueous solutions

SiCは超高耐圧バイポーラデバイスもしくは水素生成用光電極などへの応用が期待されている。それらの応用においてキャリアライフタイムはデバイス性能を左右する重要なパラメータであり、表面再結合はキャリアライフタイムに影響を与える現象である。本研究ではSiCの表面状態と表面再結合速度との関係を明らかにするために、様々なpHの水溶液と接触させた4H-SiCに対してキャリアライフタイムの測定を行った。