2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[20p-H103-1~21] 6.2 カーボン系薄膜

2016年3月20日(日) 13:15 〜 19:00 H103 (本館)

青野 祐美(防衛大)、中村 挙子(産総研)、澤邊 厚仁(青学大)

17:15 〜 17:30

[20p-H103-15] トリメチルボラジンからのa-BCN膜の作製

河越 奈沙1、山本 哲也2、中野 雅之3、岩本 喜直4、松尾 誠4、稗田 純子1、大竹 尚登1、赤坂 大樹1 (1.東工大、2.日本触媒、3.東京高専、4.i-Motto)

キーワード:アモルファスBCN膜、トリメチルボラジン、硬さ

アモルファス窒化ホウ素炭素(a-BCN)膜中への効率的なN原子の導入には原料分子中にNを導入することが有効と考えられる.本研究ではトリメチルボラジンを用い,a-BCN膜をプラズマCVD法により作製し,XPS法により組成をナノインデンテーション試験により機械的特性を評価した.原料中のNとBの原子濃度は同じだが,膜中の組成ではNの比率が低下した.硬さは1.06 GPaと軟らかく,膜中の一部のBがB-B結合やOと結合したことが原因と考えられた.