2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.5 イオンビーム一般

[20p-H137-1~15] 7.5 イオンビーム一般

2016年3月20日(日) 13:15 〜 17:15 H137 (本館)

種村 眞幸(名工大)、豊田 紀章(兵庫県立大)

17:00 〜 17:15

[20p-H137-15] ガスクラスターイオンビームを用いた表面活性化接合の検討

佐々木 智也1、豊田 紀章1、山田 公1 (1.兵庫県立大院工)

キーワード:接合

各種材料を低温接合できる手法が注目されている。その一つである表面活性化接合を行うイオンとして、低エネルギーイオンビームが実現できるGCIBを用いることを検討するため、対向する試料へ同時にGCIBを斜め照射可能な機構を設置した。照射表面のXPS分析から入射角度を傾けるほど表面酸化膜の除去が可能であることがわかった。今後AFM測定、引張試験を行う予定である。