2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶

[20p-P16-1~12] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶

2016年3月20日(日) 16:00 〜 18:00 P16 (屋内運動場)

16:00 〜 18:00

[20p-P16-4] 高密度GaSbドットを用いたSi(100)基板上のGaSb薄膜成長

〇(DC)町田 龍人1、戸田 隆介1、藤川 紗千恵1、原 紳介2、渡邊 一世2、赤羽 浩一2、笠松 章史2、藤代 博記1 (1.東理大基礎工、2.情報通信研究機構)

キーワード:GaSb、Si(100)、MBE