[20p-P8-1~6] 9.3 Nanoelectronics

[20p-P8-5] Development of RT plasma excited atomic layer deposition for oxide coating on nano particles

〇Ko Kikuchi¹, Kebsaku Kanomata², Bashir Ahmmad², Shigeru Kubota², Fumihiko Hirose² (1.Yamagata Univ., 2.Yamagata Grad.)

Keywords:Atomic layer deposition,nano particle

微粒子表面の改質法として、原子層堆積法(ALD)が注目されている。我々はプラズマ励起技術を活用して、ナノ微粒子表面に酸化チタン被膜を室温形成できる原子層堆積技術を開発した。本研究では、ナノサイズの金微粒子を材料に酸化チタン被膜を試みた。