2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[20p-S221-1~17] 13.3 絶縁膜技術

2016年3月20日(日) 13:45 〜 18:15 S221 (南2号館)

渡邉 孝信(早大)、舟窪 浩(東工大)

17:30 〜 17:45

[20p-S221-15] ラマン分光測定及びXRDによる強誘電性YドープHfO2の構造解析

〇厳樫 一孝1、柴山 茂久1,2、矢嶋 赳彬1、西村 知紀1、右田 真司3、鳥海 明1 (1.東大院工、2.学振特別研究員(PD)、3.産総研)

キーワード：強誘電体、ラマン分光測定