2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

合同セッションK » 合同セッションK ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

[20p-S222-1~17] 21.1 合同セッションK ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

2016年3月20日(日) 13:00 〜 17:30 S222 (南2号館)

大橋 直樹(物材機構)、牧野 久雄(高知工科大)

15:30 〜 15:45

[20p-S222-10] 低貫通転位密度Zn極性ZnOホモエピタキシャル薄膜への3d遷移金属添加によるキャリア寿命制御

秩父 重英1、小島 一信1、山崎 芳樹1、古澤 健太郎1、上殿 明良2 (1.東北大多元研、2.筑波大物理工)

キーワード:酸化亜鉛、時間分解フォトルミネッセンス、発光寿命

Ni、Mnを添加した低貫通転位密度Zn極性ZnOエピタキシャル薄膜のバンド端自由励起子(FE)発光の発光寿命の遷移金属濃度依存性から励起子の捕獲断面積を求める。また、FE発光の極低温と室温の強度比の発光寿命依存性から、非輻射再結合中心濃度について議論する。