2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

[20p-S622-1~19] 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

2016年3月20日(日) 13:45 〜 19:00 S622 (南6号館)

松井 裕章(東大)、西田 宗弘(広島大)

17:30 〜 17:45

[20p-S622-14] 赤外メタマテリアルの構造対称性制御によるファノ共鳴励起

〇(B)原 修平1、石川 篤1,2、田中 拓男2,3、鶴田 健二1 (1.岡大工、2.理研、3.東工大)

キーワード:メタマテリアル、電場増強、近接場相互作用

ファノ共鳴メタマテリアルは,適切なQ値を有するDipole/Quadrupoleモードが適切な結合係数でカップリングした複雑な構造体が必要とされ,高度な微細加工技術が要求される.今回我々は,簡素なメタマテリアル構造のユニットセルにおいて,構造対称性を制御することで赤外領域におけるファノ共鳴の励起強度を自在に変化することに成功したので報告する.