2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

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[20p-W321-1~13] 液中レーザープロセス技術の展開

2016年3月20日(日) 13:15 〜 18:45 W321 (西2・3号館)

佐藤 正健(産総研)、越崎 直人(北大)、伊藤 義郎(長岡技科大)

17:15 〜 17:45

[20p-W321-10] 気‐液界面レーザーアブレーションによるサブナノ、シングルナノクラスター創製

西 哲平1、鈴木 教友1、秋元 祐介1、高橋 直子1、北住 幸介1、梶谷 修司1、渡邊 佳英1 (1.豊田中研)

キーワード:レーザーアブレーション、クラスター、ナノ粒子

クラスター創成を目的とした新規なレーザープロセスとして、気‐液界面レーザーアブレーションを提案している。従来の液中レーザーアブレーションと比較して、生成効率が高く、サイズが均一なクラスター創成が可能である。さらに、サブナノサイズのクラスター創成も可能である。本公演では、気‐液界面レーザーアブレーションを用いたPdシングルナノクラスター、Agサブナノクラスター創成の検討結果について報告する。