2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[21a-S223-1~13] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2016年3月21日(月) 09:00 〜 12:30 S223 (南2号館)

末益 崇(筑波大)、寺井 慶和(九工大)

10:15 〜 10:30

[21a-S223-6] 光電子分光による Cr 添加 AlN のバンド構造の研究

〇(M1)立溝 信之1、園田 早紀1、山根 宏之2、田中 清尚2 (1.京都工繊大、2.分子研)

キーワード:光電子分光、窒化アルミニウム、3d遷移金属

Cr添加AlN薄膜は紫外-可視-赤外の超広帯域光電変換が可能なマルチバンドギャップ物質となることが期待されている。このCr添加AlNのバンド構造を解明するため、光電子分光法(PES)により価電子帯スペクトル、光電子収量分光法(PYS)により最高電子占有状態のポテンシャルを測定した。その結果、Cr3d軌道が主成分の新しい電子占有状態がAlNの禁制帯中に形成されていることが明らかになった。