2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[21a-S421-1~11] 17.1 カーボンナノチューブ,他のナノカーボン材料

2016年3月21日(月) 09:15 〜 12:15 S421 (南4号館)

千足 昇平(東大)

09:30 〜 09:45

[21a-S421-2] Rh触媒を用いた単層カーボンナノチューブ成長におけるAl2O3バッファ層作製法の検討

桐林 星光1、小川 征悟1、小澤 顕成1、才田 隆広1、成塚 重弥1、丸山 隆浩1 (1.名城大理工)

キーワード:単層カーボンナノチューブ、バッファ層

単層カーボンナノチューブ(SWNT)は様々な優れた電気的特性をもつことからエレクトロニクス分野への応用が期待されている。そのため,成長温度の低温化が望まれているが低温成長における成長量は十分ではない。Al2O3バッファ層を触媒担持層として導入することで成長量が劇的に増加した。本研究ではAl2O3バッファ層の作製方法の違いがSWNT成長に与える影響を明らかにし,その原因について考察する。