2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.5 デバイス/集積化技術

[21a-S422-1~10] 13.5 デバイス/集積化技術

2016年3月21日(月) 09:00 〜 12:15 S422 (南4号館)

内田 建(慶大)、遠藤 哲郎(東北大)

11:45 〜 12:00

[21a-S422-9] 石英基板上のInGaAs MOSFETの高周波特性

久米 英司1、石井 裕之2、服部 浩之2、Chang Wen-Hsin2、小倉 睦郎1、前田 辰郎2 (1.アイアールスペック、2.産総研ナノエレ)

キーワード:InGaAs on 石英基板、高周波デバイス

DWBにより石英基板上にInGaAs MOSFETを作製した。DC特性はp-InP基板上と同程度の示したのに対して、RF特性では石英基板上での遮断周波数がp-InP基板上と比べて約15倍大きかった。