[21a-W321-1~12] 3.7 レーザープロセシング

[21a-W321-6] フェムト秒レーザ還元直接描画法によるCu-Ni微細パターニング

〇溝尻 瑞枝¹、櫻井 淳平¹、秦 誠一¹ (1.名大院工)

キーワード：フェムト秒レーザ、微細加工、還元焼結

フェムト秒レーザ還元直接描画法を用い，Cu-Ni微細パターニングを行った．原料粉末CuO，NiOナノ粒子と還元剤の混合溶液をガラス基板上に塗布し，フェムト秒レーザを用いて描画した．パルスエネルギー0.54 nJ，描画速度1－20 mm/sで描画を行った．描画パターンのXRDスペクトルより，描画速度20 mm/sの場合CuNiが生成されることが分かった．また，描画パターンの導電性も確認できた．当日は，描画パターンの抵抗率等詳細について報告する．