2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.1 強誘電体薄膜

[21a-W641-1~12] 6.1 強誘電体薄膜

2016年3月21日(月) 09:00 〜 12:15 W641 (西6号館)

山田 智明(名大)、平永 良臣(東北大)

10:15 〜 10:30

[21a-W641-6] 化学溶液法によるピエゾMEMSデバイス向けPZT薄膜形成

河原 正美1、KIM SEUNG-HYUN2 (1.(株)高純度化学研、2.Brown大)

キーワード:PZT、ゾルゲル、MEMS

ピエゾ効果を持つ物質は高機能センサー、アクチュエーター、超音波探査など、様々な分野で応用されている。強誘電体としての性質を持つPZT薄膜は、電気的な刺激により大きな変異を取り出すことが出来るため、MEMSの応用面では最も重要視されている。PZT 薄膜を形成する方法として、化学溶液法(CSD法)は有効な技術の一つである。高品質かつ量産性に優れたPZT薄膜を形成することを目的とし、我々が開発した材料にて作成した薄膜は、ボイドの少ない、より高純度、高品質な薄膜の形成を可能とした。PZT薄膜用のCSD溶液開発の経緯を企業視点にてご紹介し、本CSD溶液を使用したピエゾMEMSデバイスの応用についてふれる。