2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

[21a-W834-1~5] 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

2016年3月21日(月) 09:00 〜 10:15 W834 (西8号館)

舩木 修平(島根大)

09:00 〜 09:15

[21a-W834-1] 異なるBMO添加量を持ったREBCO薄膜中におけるナノロッド自己組織化の結晶成長シミュレーション

一野 祐亮1,2、吉田 隆2 (1.名大未来研、2.名大院工)

キーワード:自己組織化、REBCO薄膜、結晶成長シミュレーション

パルスレーザー蒸着(PLD)法などの気相法でREBa2Cu3Oy (REBCO, RE=Y, Sm, Gdなど)薄膜を成膜する際にBaMO3 (BMO, M=Zr, Sn, Hfなど)を添加するとBMOがREBCO中でナノロッドやナノパーティクルに自己組織化し、強力な磁束ピンニングセンターとなる。そのため、自己組織化機構を明らかにすることが重要である。これまで我々は、Monte Carlo (MC)法を用いて、成膜温度や成膜レートが自己組織化に与える影響について検討した。
自己組織化はBMO添加量にも影響を受けるため、本発表では、BMO添加量が自己組織化に与える影響をシミュレーションした結果について報告する。