2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[21p-H111-1~22] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2016年3月21日(月) 13:00 〜 18:45 H111 (本館)

島 久(産総研)、内藤 泰久(産総研)

15:45 〜 16:00

[21p-H111-12] ルチル型TiO2単結晶の酸素空孔分布制御と抵抗変化特性

下谷 将人1、竹内 正太郎1、酒井 朗1 (1.阪大院基礎工)

キーワード:酸化チタン、抵抗変化、メモリスタ