2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[21p-H111-1~22] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2016年3月21日(月) 13:00 〜 18:45 H111 (本館)

島 久(産総研)、内藤 泰久(産総研)

13:15 〜 13:30

[21p-H111-2] 二層絶縁層を有するMoOx/Al2O3抵抗変化型メモリ動作のTEMその場観察

平田 周一郎1、高橋 謙仁1、福地 厚1、有田 正志1、高橋 庸夫1 (1.北大院情報)

キーワード:TEM、ReRAM