The 63rd JSAP Spring Meeting, 2016

Presentation information

Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.3 Oxide electronics

[21p-H111-1~22] 6.3 Oxide electronics

Mon. Mar 21, 2016 1:00 PM - 6:45 PM H111 (H)

Hisashi Shima(AIST), Yasuhisa Naitoh(AIST)

1:30 PM - 1:45 PM

[21p-H111-3] Analog memory characteristics of resistance random access memories

Mingyu Jo1, Reon Katsumura1, Atsushi Tsurumaki-Fukuchi1, Masashi Arita1, Yasuo Takahashi1, Hideyuki Ando2, Takashi Morie2 (1.Hokkaido Univ., 2.Kyushu Inst. Tech.)

Keywords:ReRAM

抵抗変化型メモリ(ReRAM)は金属の間に絶縁層を挟んだシンプルな構造の不揮発性デバイスである。近年、その抵抗を制御することで2値動作だけでなく、多値動作への応用も期待されている。また抵抗を離散的ではなくアナログ的に制御することで更なる応用ができる。本研究ではMoOxを絶縁層として用いたReRAMデバイスのアナログ的抵抗制御について検討した。