[21p-H116-1~22] 3.8 光計測技術・機器

[21p-H116-7] SC光源と多波長逆伝搬法を用いた高分解能断層形状計測

〇安部 和樹¹、武隈 雄也¹、崔 森悦²、佐々木 修己²、新田 勇¹、小浦方 格³ (1.新潟大院自然研、2.新潟大工、3.新潟大産学地域連携推進機構)

キーワード：干渉計測、膜形状計測、プリンタブルエレクトロニクス

近年、プリンタブルエレクトロニクス用機能性フィルムの断層を検査可能な装置の開発が重要となっている。本研究では、安価な超広帯域光源と多波長逆伝搬法を用いた位相検出によって、断層像分解能1mm以下の断層計測装置を開発する。実験では、超広帯域SC光源の可視光及び近赤外領域(500~900nm)を用いてミラー形状と位置計測を逆伝搬法によるピーク及び位相検出から計測し、実用可能性について評価を行った。