2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[21p-H121-1~17] 15.4 III-V族窒化物結晶

2016年3月21日(月) 13:15 〜 18:00 H121 (本館)

宮嶋 孝夫(名城大)、石井 良太(京大)、新田 州吾(名大)

17:00 〜 17:15

[21p-H121-14] アニール処理AlN下地層上AlGaN/AlN-MQWの光学特性

袴田 淳哉1、草深 敏匡1、千賀 崇史1、岩谷 素顕1、竹内 哲也1、上山 智1、三宅 秀人2、赤崎 勇1,3 (1.名城大・理工、2.三重大・工、3.名古屋大・赤崎記念研究センター)

キーワード:AlN

高性能紫外発光素子の実現にサファイア上高品質AlN層の結晶成長は極めて重要である。これまで、サファイア上AlNを高温でアニールすることで結晶性が改善されるという報告がある。本研究では、アニールして高品質化したサファイア上AlN層を下地層としてMQW構造を再成長させ、その光学特性評価により、アニールしたAlN下地層の有用性を検討した。