4:00 PM - 6:00 PM
[21p-P12-10] The Effects of Ar Plasma Etching and UV Ozone Treatment on Single-crystal CdTe
Keywords:CdTe,semiconductor radiation detector,plasma treatment
2次元X線検出器の高精細化を目指し、検出器画素サイズの微細化の検討を行った。検出器材料として、単結晶CdTeを用い、結晶表面に微細な画素を形成するには、プラズマを用いた表面処理・加工技術の向上が欠かせない。HeやH2等によるプラズマエッチングの報告があるが1)、本研究ではArプラズマエッチング前処理と電極形成後のUV処理をCdTe単結晶に施し、それらのCdTe表面状態や電気的特性への影響を評価した。
【1】A.Higa, I. Owan, H.Toyama, M.Yamazato, R.Ohno, M Toguchi, Jpn. J. Appl. Phys. 46(5) (2007) 2869
【1】A.Higa, I. Owan, H.Toyama, M.Yamazato, R.Ohno, M Toguchi, Jpn. J. Appl. Phys. 46(5) (2007) 2869