[21p-P12-1~55] 2 Ionizing Radiation（Poster）

[21p-P12-10] The Effects of Ar Plasma Etching and UV Ozone Treatment on Single-crystal CdTe

〇(M1)Yusuke Kakimoto¹, Hiroyuki Kishihara², Akina Ichioka², Satoshi Tokuda², Toshinori Yoshimuta², Toshiyuki Sato^1,2 (1.Nara Institute of Science and Technology, 2.SHIMADZU Co.)

Keywords:CdTe,semiconductor radiation detector,plasma treatment

2次元X線検出器の高精細化を目指し、検出器画素サイズの微細化の検討を行った。検出器材料として、単結晶CdTeを用い、結晶表面に微細な画素を形成するには、プラズマを用いた表面処理・加工技術の向上が欠かせない。HeやH₂等によるプラズマエッチングの報告があるが¹⁾、本研究ではArプラズマエッチング前処理と電極形成後のUV処理をCdTe単結晶に施し、それらのCdTe表面状態や電気的特性への影響を評価した。
【1】A.Higa, I. Owan, H.Toyama, M.Yamazato, R.Ohno, M Toguchi, Jpn. J. Appl. Phys. 46(5) (2007) 2869