[21p-P6-1~4] 8.5 Nanotechnology

[21p-P6-2] Synthesis of Graphene by RF Magnetron Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition ane Its Analyses

〇(B)Satoshi Ishidoshiro¹, Shunya Yamada¹, Yuma Kawamura¹, Yasuaki Hayashi¹ (1.Kyoto Inst.Technol.)

Keywords:Graphene,RF Magnetron Plasma

高周波(RF)マグネトロンプラズマCVD法を用いてグラフェンの成長を行い、グラフェンの成長過程における気相プラズマの状態を発光分光法およびプローブ法により解析し、その反応過程を調べた。
プラズマ発光スペクトルのH_α(656.3nm), CH (431.3nm ), C₂ (516.5nm) ピーク相対強度の圧力依存性より圧力が低い場合は、気相中のCH, C₂のラジカル密度が相対的に低いことが推察された。