[21p-P6-1~4] 8.5 プラズマナノテクノロジー

[21p-P6-2] 高周波マグネトロンプラズマCVDによるグラフェンの成長と解析

〇(B)石徹白 智¹、山田 隼也¹、河村 侑馬¹、林 康明¹ (1.京都工繊大)

キーワード：グラフェン、高周波マグネトロンプラズマ

高周波(RF)マグネトロンプラズマCVD法を用いてグラフェンの成長を行い、グラフェンの成長過程における気相プラズマの状態を発光分光法およびプローブ法により解析し、その反応過程を調べた。
プラズマ発光スペクトルのH_α(656.3nm), CH (431.3nm ), C₂ (516.5nm) ピーク相対強度の圧力依存性より圧力が低い場合は、気相中のCH, C₂のラジカル密度が相対的に低いことが推察された。