[21p-S222-1~9] 金属酸化物薄膜の成膜装置

[21p-S222-2] スパッタリング併用有機金属気相堆積法と希土類添加ZnOへの応用

〇藤原 康文¹ (1.阪大院工)

キーワード：スパッタリング併用有機金属気相堆積法、希土類添加半導体、酸化亜鉛

本講演では、当研究室で独自に開発したスパッタリング併用有機金属気相堆積（SA-MOCVD）法と、その希土類添加ZnO薄膜作製への応用について報告する。