[21p-S222-1~9] 金属酸化物薄膜の成膜装置

[21p-S222-3] ECRプラズマスパッタ法による金属酸化物薄膜形成

〇赤沢 方省¹ (1.NTT DIC)

キーワード：ECRプラズマスパッタリング、欠陥制御、コンビナトリアルスパッタ

ECRプラズマスパッタ法の原理と特徴を、他の成膜手法と対比して解説する。低プラズマダメージ、ターゲット状態の常時モニター、広いダイナミックレンジの酸化祖制御、良好な密着性について示した後、欠陥や不純物の状態をいかに制御して光電子デバイスに要求される特性を実現するかについて述べる