[21p-W331-1~19] CS.2 3.7, 12.6, 12.7のコードシェアセッション「レーザー・ナノ・バイオ ―プロセシングとセンシングの融合に向けて―」

[21p-W331-6] マイクロ流路作製のためのLPP EUV光によるPDMSの加工

〇浦井 ひかり¹、小川 瑞生¹、深見 慎太郎¹、鳥居 周一¹、牧村 哲也¹、中村 大輔²、高橋 昭彦²、岡田 龍雄²、新納 弘之³ (1.筑波大院数理、2.九大院シス情、3.産総研)

キーワード：極端紫外光、PDMS、マイクロ加工