2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[21p-W541-1~12] 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2016年3月21日(月) 13:45 〜 17:00 W541 (西5号館)

塩島 謙次(福井大)、牧山 剛三(富士通研)

16:30 〜 16:45

[21p-W541-11] 高誘電率絶縁膜を用いたFP電極を有する縦型GaNダイオード

吉野 理貴1、堀切 文正2、太田 博1、山本 康博1、三島 友義1、中村 徹1 (1.法政大、2.サイオクス)

キーワード:GaN、high-k、ダイオード