The 63rd JSAP Spring Meeting, 2016

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Poster presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.3 Oxide electronics

[22a-P4-1~27] 6.3 Oxide electronics

Tue. Mar 22, 2016 9:30 AM - 11:30 AM P4 (Gymnasium)

9:30 AM - 11:30 AM

[22a-P4-19] Formation of NiO particles on n-GaN using metal-organic-decomposition (MOD) method

〇(M1)Hirofumi Kida1, Keisuke Ito1, Yusuke Kumazaki1, Taketomo Sato1 (1.RCIQE)

Keywords:photocatalysis,NiO,GaN

窒化ガリウム(GaN)は広い禁制帯幅を持ち、光触媒材料として魅力的な特徴を有するが、陽極として用いると電極自体が腐食してしまう問題がある。これを回避する有望な手法として、助触媒である酸化ニッケル(NiO)を担持する取り組みがなされている。本研究では、金属有機化合物分解法(MOD法)を用いたGaN表面へのNiO微粒子の形成に取り組んだ。