11:00 〜 11:15
[22a-S421-8] GaAs基板上へのMoSe2/WSe2ヘテロ構造のMBE成長
キーワード:層状物質、分子線エピタキシ
我々はこれまで、GaAs(111)B基板上に、原子層ステップが確認できる平坦なGaAsバッファー層を成長し、その表面をSe終端した後、ウエハスケールで層数制御したMoSe2薄膜を成長したことを報告してきた。今回、同様の手法によりWSe2および、MoSe2/WSe2ヘテロ接合を作製したので報告する。
一般セッション(口頭講演)
17 ナノカーボン » 17.3 層状物質
2016年3月22日(火) 09:00 〜 12:00 S421 (南4号館)
宮田 耕充(首都大)
11:00 〜 11:15
キーワード:層状物質、分子線エピタキシ