11:15 AM - 11:30 AM
[22a-S421-9] Challenge to the fabrication of molybdenum disulfide (MoS2) layer film by mist CVD
Keywords:MoS2,Mist CVD
低環境負荷な薄膜作製手法である「ミストCVD」により,二次元材料「MoS2」を基板上に直接作製したので報告する。
Oral presentation
17 Nanocarbon Technology » 17.3 Layered materials
Tue. Mar 22, 2016 9:00 AM - 12:00 PM S421 (S4)
Yasumitsu Miyata(Tokyo Metropolitan Univ.)
11:15 AM - 11:30 AM
Keywords:MoS2,Mist CVD