[22a-S421-1~11] 17.3 層状物質

[22a-S421-9] ミストCVDによる二硫化モリブデン(MoS₂)層状薄膜作製への挑戦

〇(M1)佐藤 翔太¹、川原村 敏幸^1,2 (1.高知工大院知能機械システム工学コース、2.高知工大総研)

キーワード：二硫化モリブデン、ミスト化学気相成長法

低環境負荷な薄膜作製手法である「ミストCVD」により，二次元材料「MoS2」を基板上に直接作製したので報告する。