2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[22a-W621-1~11] 8.5 プラズマナノテクノロジー

2016年3月22日(火) 09:00 〜 12:00 W621 (西6号館)

清水 禎樹(産総研)

09:15 〜 09:30

[22a-W621-2] グラフェン成長初期過程のレーザー偏光解析モニタリング

川野 正裕1、山田 隼也1、石徹白 智1、〇林 康明1 (1.京都工繊大)

キーワード:グラフェン、偏光解析、モニタリング

グラフェン成長初期過程の解析に、単色レーザー偏光解析モニタリングを用いた。グラフェンの成長には、RFマグネトロンプラズマCVD装置を用いた。20分間成長したときの偏光解析パラメータΨおよび⊿の変化をシミュレーションの結果と比較すると、グラファイト均一成長のモデルとは一致せず、薄膜中のグラファイトの体積分率が減少して光学定数が小さくなっていったとしたモデルと良い一致を示した。