2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[22p-H103-1~8] 6.4 薄膜新材料

2016年3月22日(火) 13:00 〜 15:00 H103 (本館)

篠田 健太郎(産総研)

14:00 〜 14:15

[22p-H103-5] NbO2テンプレート層を用いた、PLD法によるTaO2薄膜の作製

村岡 祐治1,2、藤本 佑樹1、亀岡 美咲2、松浦 由佳2、砂川 正典1、寺嶋 健成1、脇田 高徳1、横谷 尚睦1,2 (1.岡山大院自然科学、2.岡山大理界面)

キーワード:TaO2、NbO2、テンプレート層

ルチル型TaO2薄膜を、NbO2テンプレート層を用いてAl2O3(0001)基板上にパルスレーザー堆積法で作製した。XRDとXPS測定より、得られた薄膜はTaO2とアモルファスTa2O5表面層からなることがわかった。また、NbO2層にはTaO2膜の結晶化とTa4+の形成を促進する役割があることを明らかにした。本研究から、NbO2テンプレート相の活用がTaO2薄膜の作製に有効であることを示す。