2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[22p-H121-1~7] 15.4 III-V族窒化物結晶

2016年3月22日(火) 13:15 〜 15:00 H121 (本館)

角谷 正友(物材機構)

14:30 〜 14:45

[22p-H121-6] 組成傾斜GaInNを用いた窒化物半導体トンネル接合

高須賀 大貴1、井野 正貴1、竹内 哲也1、岩谷 素顕1、上山 智1、赤﨑 勇1,2 (1.名城大、2.名古屋大・赤崎記念研究センター)

キーワード:半導体、トンネル接合