2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

合同セッションK » 合同セッションK ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

[22p-S222-1~9] 21.1 合同セッションK ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

2016年3月22日(火) 12:30 〜 14:45 S222 (南2号館)

神谷 利夫(東工大)

12:45 〜 13:00

[22p-S222-2] 低電流動作非晶質InGaZnO抵抗変化メモリに関する研究

門 圭佑1、山内 祥光1、鍋坂 恭平1、藤井 茉美1、Juan Paolo Bermundo1、石河 泰明1、浦岡 行治1 (1.奈良先端大)

キーワード:抵抗変化メモリ、非晶質InGaZnO、低電流動作