09:30 〜 11:30 [8a-PA4-22] 低温In2O3バッファ層を用いたa-Al2O3基板上In2O3のミストCVD成長 〇(M2)小林 拓也1、山口 智広1、尾沼 猛義1、本田 徹1 (1.工学院大学)