16:45 〜 17:00 △ [6p-C23-11] 高濃度Fe添加NiO薄膜の室温エピタキシャル成長と特性評価 〇池谷 侑紀1、藤元 勇希1、土嶺 信男2、金子 智3,1、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大物質理工、2.(株)豊島製作所、3.神奈川県産総研)